Òptica del sistema òptic d'escaneig dinàmic: lent d'enfocament petit 1pc, lents de focus 1-2pcs, mirall Galvo. Tota la lent òptica forma una funció de l'expansió del feix, l'enfocament i la desviació del feix i l'escaneig.
La part expansiva és una lent negativa, és a dir, una lent d'enfocament petit, que realitza l'expansió del feix i el zoom en moviment, la lent d'enfocament està composta per un grup de lents positives. El mirall galvo és mirall del sistema galvanòmetre.
(1) Optimització del disseny de la lent: relació òptima entre diàmetre i gruix
(2) Llindar de dany alt de la lent:> 30J/cm2 10ns
(3) Recobriment d'absorció ultra baixa, taxa d'absorció: <20 ppm
(4) Relació entre gruix i diàmetre del galvanòmetre: 1:35
(5) Precisió de la superfície de la lent: <= λ/5
Lent post-objectiu
Pupila d'entrada màxima (mm) | Òptica 1 diàmetre (mm) | Òptica 2 diàmetre (mm) | Òptica 3 diàmetre (mm) | Camp d'escaneig (mm) | Abertura clara d'escàner (mm) | Longitud d'ona |
8 | 15 | 55 | 55 | 600 x 600 800 x 800 | 30 | 10,6 h |
12 | 22 | 55 | 55 | 1600 x 1600 | 30 | |
8 | 16 | 55 | 55 | 600 x 600 800 x 800 | 30 | 1030-1090 nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300 x 300 | 10 | 532 nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300 x 300 | 10 | 355 nm |
Mirall reflector
Descripció de la part | Diàmetre (mm) | Gruix (mm) | Material | Revestiment |
Reflector de silici | 25.4 | 3 | Silici | HR@10.6um,AOI: 45° |
Reflector de silici | 30 | 4 | Silici | HR@10.6um,AOI: 45° |
Reflector de fibra | 25.4 | 6.35 | Sílice fosa | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
Reflector de fibra | 30 | 5 | Sílice fosa | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
Reflector de fibra | 50 | 10 | Sílice fosa | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
532 Reflector | 25.4 | 6 | Sílice fosa | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflector | 25.4 | 6.35 | Sílice fosa | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflector | 30 | 5 | Sílice fosa | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflector | 50 | 10 | Sílice fosa | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
355 Reflector | 25.4 | 6 | Sílice fosa | HR@355nm i 433nm, AOI: 45° |
355 Reflector | 25.4 | 6.35 | Sílice fosa | HR@355nm i 433nm, AOI: 45° |
355 Reflector | 25.4 | 10 | Sílice fosa | HR@355nm i 433nm, AOI: 45° |
355 Reflector | 30 | 5 | Sílice fosa | HR@355nm i 433nm, AOI: 45° |
Mirall Galvo
Descripció de la part | Pupila d'entrada màxima (mm) | Material | Revestiment | Longitud d'ona |
55 mm L * 35 mm W * 3,5 mm T-X 62 mm L * 43 mm W * 3,5 mm T-Y | 30 | Silici | MMR@10.6um | 10,6 h |
55 mm L * 35 mm W * 3,5 mm T-X 62 mm L * 43 mm W * 3,5 mm T-Y | 30 | Sílice fosa | HR@1030-1090nm | 1030-1090 nm |
55 mm L * 35 mm W * 3,5 mm T-X 62 mm L * 43 mm W * 3,5 mm T-Y | 30 | Sílice fosa | HR @ 532 nm | 532 nm |
55 mm L * 35 mm W * 3,5 mm T-X 62 mm L * 43 mm W * 3,5 mm T-Y | 30 | Sílice fosa | HR @ 355 nm | 355 nm |
Lent de protecció
Diàmetre (mm) | Gruix (mm) | Material | Revestiment |
75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 x 60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 x 64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 x 70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |