SLA (estereolitografia) és un procés de fabricació additiva que funciona enfocant un làser UV a una cuba de resina fotopolímera. Amb l'ajuda del programari de fabricació assistida per ordinador o disseny assistit per ordinador (CAM/CAD), el làser UV s'utilitza per dibuixar un disseny o una forma preprogramada a la superfície de la cuba de fotopolímer. Els fotopolímers són sensibles a la llum ultraviolada, de manera que la resina es solidifica fotoquímicament i forma una sola capa de l'objecte 3D desitjat. Aquest procés es repeteix per a cada capa del disseny fins que s'ha completat l'objecte 3D.
CARMANHAAS podria oferir al client que el sistema òptic inclou principalment un escàner de galvanòmetre ràpid i una lent d'escaneig F-THETA, expansor de feix, mirall, etc.
Capçal d'escàner Galvo de 355 nm
| Model | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Capçal d'escaneig refrigerat/segellat amb aigua | sí | sí | sí |
| Abertura (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Angle d'escaneig efectiu | ±10° | ±10° | ±10° |
| Error de seguiment | 0,19 ms | 0,28 ms | 0,45 ms |
| Temps de resposta al pas (1% de l'escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocitat típica | |||
| Posicionament / salt | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Escaneig de línies/escaneig ràster | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Escaneig vectorial típic | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Bona qualitat d'escriptura | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Alta qualitat d'escriptura | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Precisió | |||
| Linealitat | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolució | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilitat | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de temperatura | |||
| Deriva compensada | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8 hores de deriva de compensació a llarg termini (després de 15 minuts d'avís) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Interval de temperatura de funcionament | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interfície de senyal | Analògic: ±10V Digital: protocol XY2-100 | Analògic: ±10V Digital: protocol XY2-100 | Analògic: ±10V Digital: protocol XY2-100 |
| Requisit d'alimentació d'entrada (DC) | ±15V @ 4A RMS màxim | ±15V @ 4A RMS màxim | ±15V @ 4A RMS màxim |
355 nmF-Theta Lentes
| Descripció de la part | Distància focal (mm) | Camp d'escaneig (mm) | Entrada màxima Pupil·la (mm) | Distància de treball (mm) | Muntatge Fil |
| SL-355-360-580 | 580 | 360 x 360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520 x 520 | 10 | 824,4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610 x 610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800 x 800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expansor de feix de 355 nm
| Descripció de la part | Expansió Ratio | Entrada CA (mm) | Sortida CA (mm) | Habitatge Diàmetre (mm) | Habitatge Longitud (mm) | Muntatge Fil |
| BE3-355-D30:84,5-3x-A(M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:84,5-5x-A(M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33:80,3-7x-A(M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0,5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72,0 | M30*1-M43*0,5 |
Mirall de 355 nm
| Descripció de la part | Diàmetre (mm) | Gruix (mm) | Revestiment |
| 355 Mirall | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Mirall | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Mirall | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
