SLA (estereolitografia) és un procés de fabricació additiva que funciona centrant un làser UV en un IVA de resina fotopolímer. Amb l’ajuda del programari de fabricació o disseny assistit per ordinador (CAM/CAD), el làser UV s’utilitza per dibuixar un disseny o forma preprogramat a la superfície de l’IVA del fotopolímer. Els fotopolímers són sensibles a la llum ultraviolada, de manera que la resina es solidifica fotoquímicament i forma una sola capa de l’objecte 3D desitjat. Aquest procés es repeteix per a cada capa del disseny fins que es completi l'objecte 3D.
Carmanhaas podria oferir al client El sistema òptic inclou principalment escàner de galvanòmetre ràpid i lents d’exploració F-Theta, expansor de feixos, mirall, etc.
Cap de l'escàner Galvo de 355nm
| Model | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Aigua freda/segellat capçal d'escaneig | sí | sí | sí |
| Apertura (MM) | 14 | 20 | 30 |
| Angle d'exploració eficaç | ± 10 ° | ± 10 ° | ± 10 ° |
| Error de seguiment | 0,19 ms | 0,28ms | 0,45ms |
| Temps de resposta de pas (1% de escala completa) | ≤ 0,4 ms | ≤ 0,6 ms | ≤ 0,9 ms |
| Velocitat típica | |||
| Posicionament / salt | <15 m/s | <12 m/s | <9 m/s |
| Escaneig de línia/exploració ràster | <10 m/s | <7 m/s | <4 m/s |
| Exploració vectorial típica | <4 m/s | <3 m/s | <2 m/s |
| Bona qualitat de l'escriptura | 700 cps | 450 CPS | 260 CPS |
| Alta qualitat de l'escriptura | 550 CPS | 320 CPS | 180 CPS |
| Precisió | |||
| Linealitat | 99,9% | 99,9% | 99,9% |
| Resolució | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetibilitat | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriva de la temperatura | |||
| Desplaçament deriva | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| QVER 8Hours Drift Offset a llarg termini （Després de 15 minuts Warn-Up） | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Interval de temperatura de funcionament | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interfície del senyal | Analògic: ± 10V Digital: protocol XY2-100 | Analògic: ± 10V Digital: protocol XY2-100 | Analògic: ± 10V Digital: protocol XY2-100 |
| Requisits d’energia d’entrada (DC) | ± 15V@ 4A MAX RMS | ± 15V@ 4A MAX RMS | ± 15V@ 4A MAX RMS |
355nmF-theta Lentes
| Descripció de la part | Longitud focal (mm) | Camp d'escaneig (mm) | Entrada màxima Alumne (mm) | Distància de treball (mm) | Muntatge Fil |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840- (15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090- (18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Expansor de feixos de 355nm
| Descripció de la part | Expansió Proporció | Entrada ca (mm) | Sortida CA (mm) | Habitatge Dia (mm) | Habitatge Longitud (mm) | Muntatge Fil |
| BE3-355-D30: 84,5-3x-A (M30*1-M43*0,5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33: 84,5-5x-A (M30*1-M43*0,5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84,5 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D33: 80,3-7x-A (M30*1-M43*0,5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80,3 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30: 90-8X-A (M30*1-M43*0,5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90,0 | M30*1-M43*0,5 |
| BE3-355-D30: 72-10x-A (M30*1-M43*0,5) | 10 vegades | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0,5 |
Mirall de 355nm
| Descripció de la part | Diàmetre (mm) | Gruix (mm) | Capa |
| 355 mirall | 30 | 3 | Hr@355nm, 45 ° AOI |
| 355 mirall | 20 | 5 | Hr@355nm, 45 ° AOI |
| 355 mirall | 30 | 5 | Hr@355nm, 45 ° AOI |
